金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置（各帶獨(dú)立的冷卻槽）、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵（5 x 10-7Torr極限真空）、PC全自動控制。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2025-09-17
訪問量：5245

立即咨詢

聯(lián)系電話：021-62318025

產(chǎn)品詳情

概述：

NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空)、PC全自動控制，*的安全互鎖。

目前，這項技術(shù)延伸到5個4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備應(yīng)用：

Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備特點(diǎn)：

獨(dú)立系統(tǒng)
14”不銹鋼立方體腔體
1次在8”樣品臺上處理1個6”晶圓片或在12”樣品臺上處理5片4”片子
加熱的氣體管路
RF等離子源，自動調(diào)諧
淋浴頭氣體分布
1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺
N2沖洗
手動放置晶圓片

在線咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說明：
驗證碼：

請輸入計算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)
下一篇：等離子體增強(qiáng)MOCVD

返回列表

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說明：

驗證碼：